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全球首次极紫外光刻 三星7nm提前半年完工

发布时间:2019-07-13 08:38:40   编辑:it技术教程网   阅读次数:

据报道,三星已经完成了7纳米新技术的研究和发展,为去年同期比预期的进展,从而奠定了三星和台积电抗衡高通骁龙855的OEM订单的基础上半。由于16 / 14nm制节点,三星和台积电工艺日趋激烈的战斗中,花了巨资继续加快新技术。

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眼下,双方都获得了成功的商业10nm的工艺,其中台积电拿下华为麒麟970,苹果A11,三星是获得高通Snapdragon 845。

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在7纳米工艺,台积电如下成熟的技术进步KO,已投入今年第一季度,华为代工麒麟980,有消息称,苹果公司一起收获A12,高通骁龙855。

由于三星已经投资了7纳米技术更先进,但非常困难的EUV极紫外光刻,并且是世界上第一个,原本预计在今年下半年完成,没想到提前了整整半年。

受此鼓舞,高通公司送去化验,新的三星芯片的样品,我不知道骁龙855。

在此之前,三星已经宣布为7nm工艺赢得了订单5G高通的芯片,只要顺利,然后让枭龙855是理所当然的事。

该人士表示,三星7nm的R&d团队已经完成了任务,转过身5nm的R&d的过程,这两个过程的份额设计数据库(DB),下一步将大大降低难度。

台积电计划尝试EUV光刻的升级版EUV 7纳米,明年的时间,EUV的全面应用获得2020 5nm的,它旁边落后于三星一大截。

Intel的10nm的方面尚未出来,已经晚了好几年,7nm的更多的则是经过三四年的最早,EUV还没有时间表的应用。

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